在半導體工業(yè)中漂洗水里所含的有機化合物會影響產品的產量和質量。因此規(guī)定水中的總有機碳（TOC）污染物的含量不得超過百萬分之一（ppb），即在此應用中只能適用超純水。

紫外照射技術的最新發(fā)展使其成功地引入半導體、制藥、化妝品，保健品等工業(yè)的超純水制造中，此項技術不僅在消毒方面發(fā)揮巨大作用，在降低TOC，去除臭氧和氯方面也效果顯著。

制藥業(yè)和其他行業(yè)的生產過程，由于生產工藝要求易造成微生物污染和生物污染，而紫外線可以作為一道有效的屏障，確保純化水水質不對任意生產工藝或階段產生影響，同時確保工藝下游的處理設備也能最優(yōu)運行，從而減少停機頻次或時間。

在這一應用使用兩種UV波長，254nm和185nm，254nm波長的紫外光用于消毒作用，同事能破壞水中殘留臭氧分子。185nm輻射能分解有機物分子，他比254nm波長能量更高。能從水分子中分解出自由羥基，從而將有機物氧化分解成CO2和水，從而降低了水中的TOC含量。

產品介紹：

高強度臭氧紫外線殺菌燈，SUS304不銹鋼材質，具有良好的殺菌效果，有效減少對超純水的影響。

安全可靠：設備耐壓0.6MPa，防護等級IP68，紫外零泄漏，

安裝簡單，設備維護方便，現(xiàn)場人員即能完成操作和維護。

沒有任何化學物質的參與，不影響產品的穩(wěn)定性。不會含有任何不需要的化學殘留物、顏色或者氣味。